反應離子刻蝕機
SAMCO RIE-10NR
|
簡介： RIE-10NR是一種新型的低成本、
高性能、全自動反應離子刻蝕系統，
能夠滿足非腐蝕性氣體化學最苛刻
的工藝要求。
計算機化觸摸屏為工藝配方編
程和存儲提供了用戶友好的界面。
該系統可以實現精確的側壁輪
廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。
憑借其圓滑、緊湊的設計，
RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。
應用:
硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、
砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的
腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。
|
 |
主要功能和優點：
1、加工至ø220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）。
2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴格的工藝要求全自動“一鍵式”操作。
3、自動壓力控制，允許獨立于氣流干泵和系統布局的過程壓力精確控制，便于維護。
4、于Windows的用戶界面，豐富的配方和內置的數據記錄功能，是一個可靠和持久的系統，全球安裝了400多個系統。
|
主要參數規格：
|
|
|
基板
|
220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）
|
|
負載
|
開放式
|
|
上下電極
|
ø240 mm
|
|
射頻功率
|
300瓦@13.56兆赫，自動匹配（500瓦為選項）
可切換射頻供電電極（陽極/陰極模式）為選項
|
|
氣體管道
|
內部2條MFC控制的氣體管道（最多6條）
|
|
泵
|
干泵（500升/分鐘）
|
|
操作系統
|
觸摸屏操作（可選擇基于Windows的用戶界面）、配方管理
|
|
端點檢測
|
光學發射光譜（OES）作為一種選擇
|
|
尺寸
|
500 mm（寬）x 920 mm（深）x 1501 mm（高）
|
